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公司簡介

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  合肥科晶材料技術有限公司成立於1997年·╃•,是由一群來自麻省理工學院和加州大學伯克利分校的材料研究人員創辦的美國MTI公司與中科院合肥物質科學研究院合資興辦的高新技術企業₪☁。主要生產氧化物晶體(A--Z)和材料實驗室成套裝置╃☁:包括“混料-壓料-燒料”(混料機╃╃✘↟、壓片機╃╃✘↟、箱式爐╃╃✘↟、真空管式爐)以及“定向-切割-研磨-拋光”(X射線定向儀╃╃✘↟、低速外圓鋸╃╃✘↟、金剛石線切割機╃╃✘↟、自動研磨╃╃✘↟、拋光機)₪☁。公司自主研發生產上百款不同規格尺寸╃╃✘↟、溫度╃╃✘↟、高溫高壓及快速升溫等產品·╃•,其中包括╃☁:箱式爐╃╃✘↟、氣氛爐╃╃✘↟、管式爐╃╃✘↟、井式爐╃╃✘↟、RTP快速升溫爐╃╃✘↟、高溫高壓爐╃╃✘↟、鍍膜機╃╃✘↟、清洗劑及新能源鋰離子電...

  • 新聞資訊

  • 技術文章

  • MTI科晶集團參加2018中國材料大會
    2018-07-19

    2018中國材料大會暨材料工藝裝置╃╃✘↟、科學器材╃╃✘↟、實驗室裝置展覽會於2018年7月12-16日在廈門會展中心召開·╃•,MTI科晶集團在展位號G02·╃•,在會上展示了小型PE...[檢視詳情]

    • 2022

      7-18
      雙溫區管式爐爐管損壞的原因有哪些✘·↟?

      雙溫區管式爐操作簡單·╃•,維護方便·╃•,爐後設有可控煙囪·╃•,適用於煤╃╃✘↟、焦化產品和化工原料的化學分析·╃•,可用於電力╃╃✘↟、煤炭╃╃✘↟、造紙╃╃✘↟、石化╃╃✘↟、水泥╃╃✘↟、農牧╃╃✘↟、醫藥科研╃╃✘↟、教學等行業和部門₪☁。該爐結構簡單·╃•,操作方便·╃•,易於控制₪☁。爐管是...

    • 2022

      6-20
      熱噴塗鍍膜裝置要如何選擇塗層材料✘·↟?

      熱噴塗鍍膜裝置在選擇超硬表面熱噴塗的塗層材料時·╃•,要考慮產品工件的工況標準和塗層的特性·╃•,以及產品的材料╃╃✘↟、量產╃╃✘↟、經濟性和建議的熱噴塗方法工件₪☁。根據塗層的功能·╃•,塗層可大致分為防腐塗層╃╃✘↟、抗磨塗層╃╃✘↟、抗磨密封塗層...

    • 2022

      5-25
      選擇合適的熱噴塗鍍膜裝置工藝其實很簡單

      熱噴塗鍍膜裝置熱噴塗工藝是保證熱噴塗塗層質量的主要措施₪☁。熱噴塗塗層質量的工藝引數涉及熱源╃╃✘↟、材料╃╃✘↟、霧化和操作₪☁。有十多個甚至九個藝術品引數等待完成·╃•,這些引數相互影響₪☁。為了產生緻密的塗層·╃•,必須考慮噴塗束流的...

    • 2022

      5-18
      真空管式爐如何充裝工作氣體✘·↟?

      真空管式爐具有多達32段升溫程式功能·╃•,只需開啟電源設定程式·╃•,機器自動工作·╃•,工作後自動關機;該儀器具有操作方便╃╃✘↟、升溫速度快╃╃✘↟、升溫速度可調╃╃✘↟、外形輕巧等優點₪☁。廣泛應用於陶瓷╃╃✘↟、冶金╃╃✘↟、電子╃╃✘↟、玻璃╃╃✘↟、化工╃╃✘↟、機械╃╃✘↟、耐...

  • 如何正確使用剛玉管
    2010-05-07

    如何使用和維護高溫管式爐中的氧化鋁管根據剛玉的特性(抗熱震性相對較差)·╃•,剛玉管是非常脆·╃•,易損傷₪☁。為了提高剛玉管的使用壽命·╃•,降低使用成本·╃•,請採取以下的建議使用可以...[檢視詳情]

    • 2022

      8-12
      高真空蒸發鍍膜儀需要怎樣的維護和保養✘·↟?

      高真空蒸發鍍膜儀可提供大100A鍍膜電流·╃•,大蒸發溫度高達1800℃·╃•,可滿足各種普通金屬和部分非金屬的蒸發₪☁。真空室採用高純石英·╃•,易於觀察鍍膜過程·╃•,易清洗;結合分子泵組·╃•,可達到5x10-4pa的極限真空度...

    • 2022

      8-9
      金剛石線切割的優勢以及需要提高的幾個方面

      金剛石線可以分為電鍍金剛石線和樹脂金剛石線₪☁。金剛石切割線是透過一定的方法·╃•,將金剛石鍍覆在鋼線上製成·╃•,透過金剛石切割機·╃•,金剛石切割線可以與物件間形成相對的磨削運動·╃•,從而實現切割的目的₪☁。金剛石線切割機採用...

    • 2022

      8-3
      雙溫區管式爐這幾個操作小妙招你可以掌握一下

      雙溫區管式爐可裝載四個不同材質的蒸發坩堝舟·╃•,可同時將兩個蒸發坩堝源送入管式爐內進行CO蒸發或反應蒸發₪☁。可實現快速加熱·╃•,透過在每個溫區設定不同的加熱溫度·╃•,形成不同的溫度梯度·╃•,實現蒸發沉積₪☁。雙通道進料系統...

    • 2022

      7-25
      你真的懂雙靶磁控濺射儀嗎✘·↟?

      磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積(PVD)方法·╃•,具有沉積溫度低╃╃✘↟、沉積速度快╃╃✘↟、沉積薄膜均勻性好╃╃✘↟、成分接近靶材成分等優點₪☁。傳統濺射技術的工作原理是╃☁:在高真空條件下·╃•,入射離子(ar+)在電場作用下轟擊靶材·╃•,...

成功案例

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